光学設計Ⅰ研究室の豊田です。研究室に所属する柴田さん(M2)、藤澤さん(M2)、出口さん(M1)、坂本さん(B4)が国際会議(Photo　Mask Japan 2026)でポスター発表を行いました。この国際会議は、半導体を作製する際の回路パターンの原盤となるフォトマスクの開発研究に特化した特徴のある集まりです。先端のEUVリソグラフィを含め、フォトマスクは日本企業の競争力やシェアがとても高い重要な産業です。研究室で開発したEUV顕微鏡用のミラーデザインは、フォトマスクの検査にも広く使われていいます。学生の皆さんは、さらに細かい構造を可視化するためにミラー光学系の高度化に挑戦しています。

科研費基盤研究(A)「10nm解像・極紫外(EUV)顕微鏡を実現するLayer by layerエッチング波面制御法の開発」

K Program 経済安全保障重要技術育成プログラム 「次世代半導体微細加工の基盤技術研究開発」

光学設計研究室が進める２つのプロジェクトに関連して、研究の現状を報告しました。企業の研究者を含む参加者からは活発な質問があり、学生の皆さんは緊張しながらも楽しい時間を過ごせたようでした。上の写真は発表前なので、少し緊張しているようです。